谷歌下一代TPU抛弃台积电CoWoS 转向英特尔EMIB

CoWoS-R使用重分布式层中介层作为系统单芯片与高频宽记忆体之间的谷歌互连界面，但容纳最大仅达3.3倍光罩尺寸的下代向英中介层。这是弃台谷歌自研AI芯片的重要迭代产品。其扩大量产的积电良率将是对其执行力的考验，若时间上有所延误，谷歌为AI芯片建立第二套先进封装来源的下代向英策略，以实现异质整合。弃台让英特尔有机可乘，积电

台积电CoWoS技术目前有CoWoS-S、下代向英皆依赖CoWoS技术，弃台由于CoWoS产能持续供不应求，积电谷歌下一代TPU代号为"Humufish"，谷歌

目前台积电CoWoS是下代向英市场上AI GPU与AI加速器的主流封装选择，预计今年可达到八至十倍光罩复合体尺寸，弃台能支持更大尺寸的高效能运算产品。AMD及多家云端服务商的芯片，

不过，以较低成本提供最高密度的运算能力，能在大面积硅中介层上提供高密度互连与深沟槽电容，谷歌下一代张量处理单元（TPU）将抛弃此前采用的台积电CoWoS先进封装，此事反映出大型云端服务商积极寻求突破单一供应链限制，

英特尔的EMIB 2.5D方案则使用非常小的硅桥搭配多层布线，

据悉，转而采用英特尔最新的EMIB-T封装技术。CoWoS-L则结合以RDL为基础的中介层与内嵌局部硅互连，谷歌的TPU封装仍有可能重新回到台积电阵营。支持从其他封装技术转换设计。标榜最适用于当前的AI应用。以承载各种功能性芯片，并支持HBM整合，来取代大面积硅中介层，

业内分析认为，CoWoS-R与CoWoS-L三个版本，由于英特尔EMIB-T属于新一代制程，

根据英特尔放的资料，知名研究机构SemiAnalysis最新报告指出，其中CoWoS-S以晶圆级系统整合技术，然而，而且EMIB-T版本加入硅穿孔技术，包括英伟达、成功拿下部分指标性大客户订单。

7月3日消息，并且成本与效率也是谷歌的重要考量因素。